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   气压烧结炉

         


   该气压烧结炉主要用于碳化硅、氮化硅等陶瓷制品的真空烧结和压力烧结。


   技术特征


气压烧结炉采用特殊的炉胆结构和加热器布置,炉温均匀性好;

气压烧结炉采用特殊结构脱脂箱,密封效果好,脱脂完全,对炉内元件无污染;

具备真空烧结、压力烧结、负压脱脂烧结等功能;

气压烧结炉采用先进的隔热结构和材料,炉胆隔热性能好、蓄热少,比传统设计节能20%以上;

气压烧结炉采用触摸屏操作,PLC集中控制,操作简单,可靠性高;

气压烧结炉具有超温超压等故障报警,机械式自动压力保护,动作互锁等功能,设备安全性高;

气压烧结炉具备远程操作、远程故障诊断和远程软件升级等功能。

 


气压烧结炉产品规格


参数\型号

PSF-323212

PSF-050513

PSF-050518

工作区尺寸W×H×L(mm)

320×320×1200

500×500×1300

500×500×1800

最高温度(℃)

1800

1800

1800

真空下温度均匀性(℃)

±5

±5

±5

压力下温度均匀性(℃)

±7.5

±10

±10

极限真空度(Pa)

2

2

2

压升率(Pa/h)

0.67

0.67

0.67

工作压力

20/60/100

20/60/100

20/60/100

工艺气氛

Ar/N2

Ar/N2

Ar/N2

 以上参数可根据工艺要求进行调整,不作为验收依据,具体以技术方案和协议为准。


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