400-677-0098
立式化学气相沉积炉(沉积炭)
立式化学气相沉积炉(沉积炭)
产品描述:
立式化学气相沉积炉(沉积炭)用于以碳氢气体(如C3H8、CH4等)为碳源的材料表面或基体的CVD/CVI处理。
应用范围:
炭/炭复合材料刹车盘、坩埚、模具等

立式化学气相沉积炉(沉积炭)技术特征

采用多温区独立控温,温度均匀性好;

采用特殊结构沉积室,密封效果好,抗污染能力强;

采用多通道沉积气路,流场均匀,无沉积死角,沉积效果好;

对炭沉积过程中产生的焦油、固体粉尘、有机气体等能进行有效的处理。

立式化学气相沉积炉(沉积炭)产品规格

参数\型号VCVD-0305-CVCVD-0608-CVCVD-0812-CVCVD-1120-CHCVD-2632-C
工作区尺寸D×H(mm) Φ300×500Φ600×800Φ800×1200Φ1100×2000Φ2600×3200
最高温度(℃) 1500 1500 1500 1500 1500
温度均匀性(℃) ±5 ±7.5 ±7.5±10 ±10
极限真空度(Pa) 1-100 1-100 1-100 1-100 1-100
压升率(Pa/h) 0.67 0.67 0.67 0.67 0.67

以上参数可根据工艺要求进行调整,不作为验收依据,具体以技术方案和协议为准。

立式化学气相沉积炉(沉积炭)配置选择

炉门:丝杆升降/液压升降/手动升降;旋转移开/平行移开(大尺寸炉门);手动锁紧/自动缩圈锁紧

炉壳:全碳钢/内层不锈钢/全不锈钢

炉胆:软碳毡/软石墨毡/硬质复合毡/CFC   

加热器、马弗:等静压石墨/模压三高石墨/细颗粒石墨

工艺气路系统:体积/质量流量计;  

热电偶:K分度号/N分度号/C分度号/S分度号

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